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多效蒸餾水機(jī)使用過(guò)程中的維護(hù)與保養(yǎng)
點(diǎn)擊次數(shù):2430 更新時(shí)間:2022-07-15 返回

 
多效蒸餾水機(jī)要使用過(guò)程中也需要維護(hù)保養(yǎng),清洗是其中一個(gè)重要項(xiàng)目。根據(jù)多效蒸餾水機(jī)的結(jié)構(gòu)特點(diǎn),一般采用化學(xué)清洗。本文所介紹的“清洗”即指化學(xué)清洗。 
一、清洗的要求和原理 

當(dāng)多效蒸餾水機(jī)在使用過(guò)程中發(fā)現(xiàn)產(chǎn)水量有明顯的下降,或在例行檢查中發(fā)現(xiàn)塔內(nèi)有明顯結(jié)垢時(shí),即應(yīng)進(jìn)行清洗。 
形成水垢的原因主要是進(jìn)料水中殘存的無(wú)機(jī)鹽長(zhǎng)時(shí)間與設(shè)備內(nèi)壁接觸、在較高的溫度和壓力下形成的。 

二、水垢的種類(lèi)及對(duì)應(yīng)的清洗劑
 
多效蒸餾水機(jī)中產(chǎn)生的水垢主要有兩種,一種是鍋爐水垢,另一種是二氧化硅水垢,清洗時(shí)應(yīng)采用不同的清洗劑: 
1、對(duì)鍋爐水垢,可用氨基磺酸(NH2SO2OH),使用時(shí)用去離子水配制成濃度為1%的清洗溶液,其PH值在所1~2之間,并加熱到60℃左右。也可用磷酸(H3PO4),使用時(shí)用去離子水配制成2%濃度的清洗溶液,并加熱到65℃左右。 
2、對(duì)二氧化硅水垢,可采用二氟化銨(NH4HF2),使用時(shí)用去離子水配制成濃度為1.5%的溶液,并加熱到50℃~60℃。 
也可采有用氫氧化鈉+陰離子活性劑,配制成濃度為10%的清洗液,并加熱到60℃左右。 
在化學(xué)清洗方法去除上述兩種水垢時(shí),不少用戶(hù)還采用市售的通用型不銹鋼清洗劑,效果不錯(cuò),使用也較方便。 
在使用酸性溶液清洗以后,一般還要求使用中和溶液進(jìn)行中和。中和溶液的配制方法如下: 
在去離子水中加入0.5%的小蘇打(HaHCO3)和0.1%陰離子界面活性劑。 

三、清洗用設(shè)備 

清洗前要準(zhǔn)備好設(shè)備,主要有: 
1、貯罐 
其容量應(yīng)大于zui低所需的清洗液用量。為安全起見(jiàn),貯罐應(yīng)設(shè)蓋。蓋上裝有視鏡(觀察清洗溶液回流情況)和通氣孔。 
貯罐應(yīng)有加熱功能,如加熱夾套或浸入式加熱器。應(yīng)注意的是,不能直接用鍋爐蒸汽或蒸餾水機(jī)引出的純蒸汽加熱清洗溶液,這樣會(huì)改變清洗液的濃度。 
2、循環(huán)耐酸泵 
采用壓頭為2.5kg~3kg、流量為100升/分鐘的耐酸泵。 
3、連接軟管 
用于把清洗用貯罐和蒸餾水機(jī)連接成清洗回路,軟管應(yīng)耐酸耐壓。 
4、閥門(mén) 
用于切斷清洗液以及調(diào)節(jié)清洗液流量。
 
四、清洗的步驟 

1、準(zhǔn)備工作 
a、關(guān)閉蒸汽閥門(mén),把蒸餾水機(jī)冷卻到室溫。關(guān)閉設(shè)備 
電源; 
b、關(guān)閉排氣閥門(mén); 
c、把蒸餾水機(jī)的“不合格水出口”和排污口與貯罐的流入口連接起來(lái); 
d、卸去蒸餾水機(jī)全部節(jié)流孔板。因孔板的孔徑大小不同,故在卸下前做好記號(hào),以便在清洗完畢后順利復(fù)原; 
e、卸去塔內(nèi)的進(jìn)料水配液盤(pán); 
f、在貯罐里灌滿(mǎn)去離子水; 
g、開(kāi)啟循環(huán)泵,向蒸餾水機(jī)灌水,直到灌滿(mǎn)為止。 
h、調(diào)節(jié)閥門(mén),使去離子水平穩(wěn)地從蒸餾水機(jī)流入貯罐; 
i、打開(kāi)所有塔頂部排氣閥,排出塔內(nèi)空氣,使塔內(nèi)表面與清洗液充分接觸。排氣后關(guān)閉。 
2、清洗 
a、向貯罐加入酸溶液(按前述濃度要求加入); 
b、在蒸餾水機(jī)和貯罐間循環(huán)流動(dòng),清洗循環(huán)時(shí)間2~12小時(shí),具體要根據(jù)結(jié)垢的程度確定。循環(huán)清洗中溶液的溫度應(yīng)達(dá)到規(guī)定的要求; 
c、定時(shí)測(cè)定PH值,PH值在所1~2之間為正常; 
d、清洗結(jié)束后,把清洗液排放到其他好迥另行處理; 
e、關(guān)閉循環(huán)泵; 
f、用去離子水沖洗約1小時(shí)。當(dāng)PH值達(dá)到5~7時(shí),停止沖洗,并放空沖洗水。 
3、如果既有鍋爐水垢又對(duì)二氧化硅水垢進(jìn)行清洗。方法同上,所同溶液前已介紹。如無(wú)二氧化硅水垢,可進(jìn)入中和階段。 
4、中和階段 
a、向蒸餾水機(jī)灌滿(mǎn)去離子水并排放掉塔內(nèi)的空氣; 
b、按前述的濃度要求加入中和溶劑,并使其循環(huán); 
c、中和的時(shí)間約為1小時(shí); 
d、中和結(jié)束后排放中和液; 
e、關(guān)閉循環(huán)泵。 
5、終了操作 
a、打開(kāi)全部排放管口; 
b、用去離子水對(duì)蒸餾水機(jī)進(jìn)行沖洗直到無(wú)明顯泡沫且 
PH值恢復(fù)到正常值(PH=7); 
c、卸去清洗接頭; 
d、打開(kāi)塔兩端的法蘭,觀察清洗效果并清洗配液盤(pán); 
e、重新裝上配液盤(pán)機(jī)上、下法蘭。 
固定上下法蘭時(shí), 
務(wù)必仔細(xì)操作,因?yàn)檎麴s塔是壓力容器; 
f、重新裝上節(jié)流孔板,注意按預(yù)先做好的記號(hào)復(fù)原; 
g、按上述清洗原理和方法對(duì)冷凝器的冷卻水管進(jìn)行清洗。
 

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